首页 > 新闻 > 半导体
[导读]为了招聘人才,ASML公司制作了全世界最小的招聘广告,并获得了吉尼斯世界记录。这个广告长33.27微米,宽7.76微米,面积为258平方微米,比一根头发还小。上面刻有ASML宣传语“To truly go small, you have to think big”(想要真的变小,那么你必须有宏大的想法)。

浏览科技公司的招聘广告,多半都是科技范十足,中规中矩。不过,最近半导体设备制造商ASML做了个招聘广告,竟然获得了吉尼斯世界记录。

本文引用地址: /news/semi/201810/833309.htm

近日,为了招聘人才,ASML公司制作了全世界最小的招聘广告,并获得了吉尼斯世界记录。这个广告长33.27微米,宽7.76微米,面积为258平方微米,比一根头发还小。上面刻有ASML宣传语“To truly go small, you have to think big”(想要真的变小,那么你必须有宏大的想法)。

 

s_486c70488fb84e0d89b96692cc31f013.jpg

ASML是全球知名的半导体设备制造商之一,总部位于荷兰,向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备——光刻机。

这份广告就是使用了TWINSCAN NXT1970Ci光刻机制作的,ASML在德国的亚琛工业大学(RWTH Aachen)举行大学生招聘会时首次展示这条广告,学生们只能使用电子显微镜查看它。

ASML表示,他们通过最小的广告,来欢迎学生们进入纳米光刻技术的世界。他们预计今年将创造3500个就业岗位,并且研发园区距离亚琛大学仅1个小时车程。

这么有创意又掌握尖端科技的公司,相信即使不用广告,学霸们也会趋之若鹜吧!

换一批

延伸阅读

[单片机新闻] 长知识啦!AMSL的光刻机为何一台能卖上亿美元?

长知识啦!AMSL的光刻机为何一台能卖上亿美元?

要了解光刻机为何为何受到如此的热捧,首先简单了解一下什么是光刻机。光刻机的工作方式通常是在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程,而这种方式正是芯片制造的核心流程之一。光刻机有几种分类......

关键字:AMSL 光刻机

[EDA] ASML出货全新光刻机NXT2000i:将用于7nm/5nm工艺

ASML出货全新光刻机NXT2000i:将用于7nm/5nm工艺

ASML推出的NXT2000i光刻机光刻精度可以达到惊人的1.9nm,远低于5nm要求的2.4nm以及7nm的3.5nm精度。 ......

关键字:NXT2000i光刻机 7nm 5nm

[半导体] 1.2亿美元!中芯国际下单ASML EUV光刻机

1.2亿美元!中芯国际下单ASML EUV光刻机

近日消息,中国最大的晶圆代工厂中芯国际已经向荷兰半导体设备制造商ASML订购了一台EUV设备,EUV是当前半导体产业中最先进也最昂贵的芯片制造设备,这台设备价值1.2亿美元,差不多花费了中芯一季度营收的14%。EUV对于......

关键字:中芯国际 EUV光刻机 ASML

[模拟技术] 没有EUV光刻机,大陆厂商在7nm之战中毫无胜算?

没有EUV光刻机,大陆厂商在7nm之战中毫无胜算?

基于三星10nm制程工艺的骁龙835早已随着三星S8、小米6等一众手机面世,而基于台积电10nm制程工艺的联发科Helio X30也和魅族Pro 7系列手机一起亮相了。除此之外麒麟970及A11处理器将于今秋和消费者见面,各家产品虽有强有弱......

关键字:7nm EUV设备 半导体制造 ASML

[半导体] EV集团推出全新掩模对准光刻技术突破速度和精度极限

EV集团推出全新掩模对准光刻技术突破速度和精度极限

微机电系统(MEMS)、纳米技术以及半导体市场晶圆键合和光刻设备领先供应商EV集团(EVG)今日宣布推出IQ Aligner NT,旨针对大容量先进封装应用推出的全新自动掩模对准系统。IQ Aligner NT光刻机配备了高强度和高均匀度曝......

关键字:EV 光刻机

[半导体] 芯片制造关键的EUV光刻机单价为何能超1亿欧元?

芯片制造关键的EUV光刻机单价为何能超1亿欧元?

每每提到半导体行业发展,免不了要说下中国最近两年发展集成电路的决心之强、投资之大,国内公司对人才也求贤若渴,不惜高薪挖人,但在关键技术上,我们落后欧美公司还是挺多的,特别是在半导体制造装备上,先进的光刻机还被欧美封锁,有钱也买不到。进入10......

关键字:EUV ASML 光刻机

[新鲜事] 光刻制造技术上取得进展 国产光刻机实现高端领域弯道超车?

光刻制造技术上取得进展 国产光刻机实现高端领域弯道超车?

光刻机是集成电路制造的关键核心设备,为了在更小的物理空间集成更多的电子元件,单个电路的物理尺寸越来越小,主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50-90nm。由于光波衍射的缘故,光刻电路是一个弥散的光斑,其特征尺寸大约是光波长的一半,......

关键字:光刻制造技术 光刻机 电子元件

我 要 评 论

网友评论

芯闻号

澳门必赢国际

更多

项目外包

更多

推荐博客